AMAT 0100-77038半导体器件
1.产 品 资 料 介 绍：
中文资料：
AMAT 0100-77038 是一种化学气相沉降装置的配件，通常用于半导体器件制造。以下是AMAT 0100-77038的配置说明和功能作用：
配置说明：
- AMAT 0100-77038是一种气体混合器，用于混合不同的气体，如氧气、氧气、硅气等。
- 该配器由一些不同的零组件组成，如混合室、进气口、出气口等。
功能作用：
- 该配料的主要作用是将不同的气体混合成所需的比例，以方便进行化学气相沉降过程。
- 通过调整混合室中的阀门和压力来控制不同气体的流量和混合比例，以满足特定的半导体制造需求。
应用领域：
- AMAT 0100-77038 配置适用于半导体制造行业，尤其是在化学气相沉降过程中使用。
- 它可以用来制造各种半导器，如晶体管、集成电源、光电器等。
英文资料：
AMAT 0100-77038 is an accessory for chemical vapor deposition devices, typically used in semiconductor device manufacturing. The following are the configuration instructions and functional functions of AMAT 0100-77038:
Configuration instructions:
AMAT 0100-77038 is a gas mixer used to mix different gases, such as oxygen, oxygen, silicon gas, etc.
The adapter consists of different components, such as a mixing chamber, air inlet, air outlet, etc.
Function:
The main function of this ingredient is to mix different gases into the required proportions to facilitate the chemical vapor deposition process.
Control the flow rate and mixing ratio of different gases by adjusting the valves and pressure in the mixing chamber to meet specific semiconductor manufacturing needs.
Application field:
The AMAT 0100-77038 configuration is suitable for the semiconductor manufacturing industry, especially for use in chemical vapor deposition processes.
It can be used to manufacture various semiconductors, such as transistors, integrated power supplies, optoelectronic devices, etc.
2.产 品 展 示
3.主 营 品 牌
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